小型、高性能(回転精度±1rpm)、多種多様な基板に対応 ラボ用スピンコーター

測定・検査装置(膜厚)

スピンコーター塗布機.comでは、非接触膜厚測定機・膜厚装置、段差測定装置も扱っております。非接触膜厚測定機・膜厚装置は、反射率分光法とカーブフィット法を組み合わせた非接触光学式薄膜測定装置です。薄膜の表面と基板との界面からの反射を解析することにより、薄膜の測定が数秒で簡単に行えます。段差測定装置は、段差及び二次元表面粗さ等を自動的に測定しデータ解析処理を行う多目的、多機能な微細形状測定機です。

非接触膜厚測定機OPTM series
ファイバー式膜厚モニタ
 段差計ET4000A
ET200

膜厚測定機(非接触・反射分光・光学式)・膜厚測定機

スピンコーター塗布機.comでは、薄膜測定装置も扱っております。薄膜測定装置は、反射率分光法とカーブフィット法を組み合わせた非接触光学式薄膜測定装置です。薄膜の表面と基板との界面からの反射を解析することにより、薄膜の測定が数秒で簡単に行えます。

非接触膜厚測定機 OPTM series

光干渉式膜厚測定装置は、膜の表面と基板との界面からの反射光の光路差によって生じる干渉光のデータを利用して膜厚を解析します。半導体業界・FPD業界・機能性フィルム業界・LED業界・レンズ、フィルター業界、DLC業界などの、ウエハ上の酸化膜・窒化膜、スピンコーターで塗布後のネガ型、ポジ型薄膜レジスト、MEMS用厚膜レジスト、カラーフィルタ、透明基板、レンズ用薄膜、及びドリル、エンドミルなど色々な業界での膜厚測定、極薄膜の測定、微小領域の膜厚測定、多層膜の測定、光学定数など、さまざまな膜厚管理のニーズに応えることが出来ます。 また、非接触膜厚計はR&Dからインラインまで幅広く対応、膜厚に応じて波長範囲をご用意しております。

特長

  • 非破壊・非接触で面内マッピング測定が可能
  • 短時間で測定(1秒以内/1ポイント)
  • 顕微分光で高精度な絶対反射率測定
    (多層膜厚、光学定数)
  • 顕微下で広い測定波長範囲を実現する光学系
    (紫外~近赤外)
  • エリアセンサーによる安全機構
  • 初めての方でも操作が簡単
    (光学定数解析が可能な楽々解析ウィザード)
  • 測定シーケンスをカスタマイズ可能なマクロ機能搭載
  • 3μmでの微小領域も測定可能(オプション)
  • 300mmステージ対応可能(オプション)
  • 各種カスタマイズに対応

設置タイプ

自動XYステージタイプ

固定フレームタイプ

組み込みヘッドタイプ

ヘッドラインタイプ

波長範囲 230nm~00nm
膜厚測定範囲 1nm~35μm

波長範囲 360nm~1,100nm
膜厚測定範囲 7nm~49μm

波長範囲 900nm~1,600nm
膜厚測定範囲 16nm~92μm

仕様

型式
波長範囲自動XYステージタイプ固定フレームタイプ組込ヘッドタイプ
230nm ~ 800nmOPTM-A1OPTM-F1OPTM-H1
360nm ~ 1,100nmOPTM-A2OPTM-F2OPTM-H2
900nm ~ 1,600nmOPTM-A3OPTM-F3OPTM-H3
仕様ストローク繰り返し精度 ※1駆動分解能
自動XYステージタイプX:200mm、Y:225mm2μm1μm
ヘッド選択仕様
波長範囲
波長範囲膜厚測定範囲 ※2検出器 ※3光源
230nm ~ 800nm1nm ~ 35μmCCD重水素+ハロゲン
360nm ~ 1,100nm7nm ~ 49μmCCD重水素+ハロゲン
900nm ~ 1,600nm16nm ~ 92μmInGaAsハロゲン
対物レンズ
タイプ倍率測定スポット径観察視野
反射対物型10倍レンズφ20μmφ800μm
20倍レンズφ10μmφ400μm
40倍レンズφ5μmφ200μm
可視屈折型 ※45倍レンズφ40μmφ1,600μm
共通仕様
本体および性能
サンプルサイズ ※5最大200×200×17mm
オートフォーカス標準搭載
多層膜解析最大50層
膜厚精度1μm未満:NIST認定試料(SiO2/Si)の膜厚保証範囲内
1μm以上:±0.2% ※6
繰り返し精度膜厚測定100nm未満:0.1nm ※7
Si基板上SiO2膜100nm以上:0.07% ※8
反射率測定230nm ~ 1,600nm:0.5% ※8
ソフトウエア
測定マニュアル測定/連像測定/マッピング測定/マクロ測定/測定同時演算機能
解析最小二乗法、最適化法、周期解析(FFT)、ピークバレイ法(PV)、基板解析
裏面反射補正、各種光学定数(nk)解析モデル式、グラフ表示(等高線/3D)
絶対反射率/解析結果フィッティング/光学定数(nk)の波長依存性
複数点解析
システムメンテナンス材料ファイル構築(データベース管理)、ハードウエアの各種設定
データ処理部
データ処理ユニットノートPC
寸法、重量
自動XYステージタイプ固定フレームタイプ組込ヘッドタイプ
寸法556(W)×566(D)×618(H)mm368(W)×468(D)×491(H)mm210(W)×441(D)×474(H)mm
90(W)×250(D)×190(H)mm ※9
重量66kg38kg23kg
4kg ※9
消費電力AC100V±10V 500VAAC100V±10V 400VA
オプション
ハードウェア微小φ3μmスポット径対応、海外向け200-240V対応、ウエハホルダー(4/6/8インチ)、固定フレームオプションステージ(微調XY、チルト)、300mm自動XYステージ
ソフトウェアパターンアライメント、ポスト解析、通信コマンド対応、レンズ芯出し機能、反り検出機能
消耗品ハロゲンランプ、重水素ランプ、Alリファレンス
上記以外のご要望(300mmウエハ対応、特殊形状サンプルホルダー、大型ステージ、ローダー搬送系対応、各種通信対応、クリーンルーム対応、等)に付いては別途お問い合わせください。
※1:移動量の繰り返し測定における拡張不確かさ(包含係数:2.1)
※2:数値はSiO2換算の膜厚値です。測定可能範囲は、測定膜種、測定条件及び分光器仕様などにより異なります。
※3:CCD:電子冷却型CCDエリアイメージセンサー512ch
InGaAs:電子冷却型 InGaAsエリアイメージセンサー512ch
※4:可視屈折型レンズでの絶対反射率の対応波長は450~800nmです。
※5:これ以外のサンプルサイズにも対応可能です。別途、ご相談ください。
※6:分光器校正精度からの計算値です。膜厚精度は膜種により異なります。
※7:20倍反射対物レンズ、230~800nm測定システムを使用し、試料の同一ポイントを再フォーカスさせ繰り返し測定した時の拡張不確かさ(包含係数:2.1)
※8:20倍反射対物レンズを使用し、試料の同一ポイントを再フォーカスさせ繰り返し測定した時の相対拡張不確かさ(包含係数:2.1)?100
※9:AC/DC電源ユニット

ファイバー式膜厚モニタ

ファイバー式膜厚モニタは、小型反射プローブを採用し、実験室レベルから生産工程でのインライン全数検査まで、すべての場面で適用可能な光干渉法による反射分光式膜厚計です。保守性に優れ、プロセス装置内への組み込みやライン管理用途としても利用できます。最大9種類の透明膜の同時測定が可能です。
メンテナンス性に優れ、プロセス装置内への組み込みやライン管理用途としても利用できます。

特長

  • 小型ファイバープローブ
    高さ30mmの小型プローブを採用したことで、機器内の僅かな空間に取り付け可能です。対象面からプローブまでの距離は、1mmから80mm程度を推奨します。測定領域は約3mmφとなります。(オプションで1mmφのアタッチメントを用意)プローブの種類を変更することにより、サンプルとの距離を100mm以上離すことが可能です。
  • 膜厚測定再現性0.1nm以下(3σ)
  • 多層膜同時測定9層対応
  • 膜質解析機能
    □ 効媒質近似(EMA)法による混合層の混合率算出、結晶性判定
    □ 光学定数解析
  • 目的によって選べる光源
    □ 白色LED、タングステンハロゲン、重水素・ハロゲン
  • 短時間で測定(1秒以内/1ポイント)
  • 膜厚終点(エンドポイント)/検出ソフト標準
  • 自動マッピング測定(オプション)/300mmウエハまで対応

仕様

光源タイプ波長範囲(nm)膜厚測定範囲平均寿命(Hour)
白色LED430~70050nm~50μm>50,000
タングステンハロゲン400~90050nm~50μm10,000
重水素・ハロゲン220~90010nm~30μm1,000
本体および性能
サンプルサイズ最大φ6インチ
測定再現性≦0.1nm※ 30nm以上1,000nm未満のSi基板上のSiO2単層膜において、0.1nm(3σ)以下。
※ 推奨設置環境条件を満足すること。
解析カーブフィッティング法、FFT法、ピーク検出法
ビーム径約φ3mm、φ1mm
測定距離ビーム径 約φ3mmの場合/最大80mm ビーム径 約φ1mmの場合/最大20mm
電源膜厚モニタ本体最大2A制御用PC最大2A
重量約4kg約3kg
寸法約150(L)x160(W)x110(H)・・・重水素・ハロゲンランプ仕様時
推奨環境条件温度 :セットポイント 18~45℃の範囲内
湿度 :45%±20%(結露無き事)
短期変化 :±1.0℃/1時間×1周期(基準セットポイント)
長期変化 :±2.0℃/24時間以上(基準セットポイント)

測定スペクトルと膜厚短期再現性の例

SiO2 on Si 単層膜 測定例(タングステンハロゲンランプ仕様)

オプション 自動ステージ

ウエハマッピング膜厚測定ユニットは、最大300mmウエハの全面自動マッピング膜厚測定が可能です。
自動アライメント機能、事故較正機能、平坦度の高いウエハチャックの採用により、信頼性の高い膜厚測定が可能です。
※ ファイバー式膜厚モニタと組み合わせて使用

自動ステージ仕様
リニアステージ
移動量: 300mm(分解能:4μm)
回転ステージ
回転範囲: -2~400度(分解能:0.005°)
寸法   : 約500(L)×160(W)×110(H)
重量   : 約20kg
消費電力 : 100~240VAC、最大2A

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