フォトリソ工程の塗布~露光~現像・エッチング、検査まで、ラボ用半導体製造装置をワンストップで提供

製品案内

フォトリソグラフィ.comでは、スピンコーター(塗布機)からマスクアライナー(露光装置)、現像・エッチングの研究用ラボ機を取り扱っております。
また、測定として、膜厚測定、段差、線幅測定の各種測定機も取り扱っております。

レジスト塗布images露光images現像imagesエッチング
 膜厚 測定検査線幅 測定検査

マスクアライナー(露光装置)

■マニュアルタイプのコンタクトマスクアライナーです。
■不定形サイズの基板、シリコン・ガラス・化合物・フイルムなど様々な材質に対応可能です。
■ご予算や用途に応じて、コリメータータイプ、マルチミラータイプ、インテグレータータイプの
 3種類の露光光源を用意しております。
■5×5mm~100×100mm及びφ6インチまでの基板に対応した機種を取り揃えております。
■マスクホルダー・試料台の交換は簡単作業のため、研究開発用途に最適です。
■アライメントスコープは双眼と三眼の二種類を用意しております。

マスクアライナー MA-10B[φ4インチ基板対応モデル]

最大基板サイズφ4インチ
露光波長ブロードバンド(g・h・i線)
露光解像度2μm(L&S)

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マスクアライナー MA-10B

マスクアライナー MA-20[φ4インチ基板対応モデル]

最大基板サイズφ4インチ
露光波長ブロードバンド(g・h・i線)
露光解像度1μm(L&S)

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マスクアライナー MA-20
OFPR-800LB
使用機種MA-20
線幅1μm(L&S)
レジストOFPR-800LB
(東京応化製)
膜厚1μm
e PR-THICK
使用機種MA-20
線幅8μm(角ホール)
レジストe-PR THICK
(e-chem japan製)
膜厚 6.3μm
SU-8
使用機種MA-20
線幅7μm(円柱)
レジストSU-8
(日本化薬製)
膜厚30μm

マスクアライナー MA-60F[φ6インチ基板対応モデル]

最大基板サイズφ6インチ
露光波長ブロードバンド(g・h・i線)
露光解像度2μm(L&S)

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マスクアライナー MA-60F
OFPR-800LB
使用機種MA-60F
線幅2μm(L&S)
レジストOFPR-800LB
(東京応化製)
膜厚1μm
e PR-THICK
使用機種MA-60F
線幅6μm(角ホール)
レジストe-PR THICK
(e-chem japan製)
膜厚6.2μm

マスクアライナー M-2LF[φ6インチ基板対応モデル]

最大基板サイズφ6インチ
露光波長ブロードバンド(g・h・i線)
露光解像度2μm(L&S)

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マスクアライナー M-2LF

マスクアライナー M-1S[φ3インチ基板対応モデル]

最大基板サイズφ3インチ
露光波長ブロードバンド(g・h・i線)
露光解像度5μm(L&S)

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マスクアライナー M-1S
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