非接触膜厚測定機 OPTM series
光干渉式膜厚測定装置は、膜の表面と基板との界面からの反射光の光路差によって生じる干渉光のデータを利用して膜厚を解析します。半導体業界・FPD業界・機能性フィルム業界・LED業界・レンズ、フィルター業界、DLC業界などの、ウエハ上の酸化膜・窒化膜、スピンコーターで塗布後のネガ型、ポジ型薄膜レジスト、MEMS用厚膜レジスト、カラーフィルタ、透明基板、レンズ用薄膜、及びドリル、エンドミルなど色々な業界での膜厚測定、極薄膜の測定、微小領域の膜厚測定、多層膜の測定、光学定数など、さまざまな膜厚管理のニーズに応えることが出来ます。 また、非接触膜厚計はR＆Dからインラインまで幅広く対応、膜厚に応じて波長範囲をご用意しております。
特長
- 非破壊・非接触で面内マッピング測定が可能
- 短時間で測定（1秒以内/1ポイント）
- 顕微分光で高精度な絶対反射率測定
（多層膜厚、光学定数） - 顕微下で広い測定波長範囲を実現する光学系
（紫外～近赤外） - エリアセンサーによる安全機構
- 初めての方でも操作が簡単
（光学定数解析が可能な楽々解析ウィザード） - 測定シーケンスをカスタマイズ可能なマクロ機能搭載
- 3μmでの微小領域も測定可能（オプション）
- 300mmステージ対応可能（オプション）
- 各種カスタマイズに対応
設置タイプ
自動XYステージタイプ
固定フレームタイプ
組み込みヘッドタイプ
ヘッドラインタイプ
波長範囲 230nm～00nm
膜厚測定範囲 1nm～35μm
波長範囲 360nm～1,100nm
膜厚測定範囲 7nm～49μm
波長範囲 900nm～1,600nm
膜厚測定範囲 16nm～92μm
仕様
型式
| 波長範囲 | 自動XYステージタイプ | 固定フレームタイプ | 組込ヘッドタイプ |
|---|---|---|---|
| 230nm ～ 800nm | OPTM-A1 | OPTM-F1 | OPTM-H1 |
| 360nm ～ 1,100nm | OPTM-A2 | OPTM-F2 | OPTM-H2 |
| 900nm ～ 1,600nm | OPTM-A3 | OPTM-F3 | OPTM-H3 |
| 仕様 | ストローク | 繰り返し精度 ※1 | 駆動分解能 |
|---|---|---|---|
| 自動XYステージタイプ | X：200mm、Y：225mm | 2μm | 1μm |
ヘッド選択仕様
波長範囲
| 波長範囲 | 膜厚測定範囲 ※2 | 検出器 ※3 | 光源 |
|---|---|---|---|
| 230nm ～ 800nm | 1nm ～ 35μm | CCD | 重水素+ハロゲン |
| 360nm ～ 1,100nm | 7nm ～ 49μm | CCD | 重水素+ハロゲン |
| 900nm ～ 1,600nm | 16nm ～ 92μm | InGaAs | ハロゲン |
対物レンズ
| タイプ | 倍率 | 測定スポット径 | 観察視野 |
|---|---|---|---|
| 反射対物型 | 10倍レンズ | φ20μｍ | φ800μｍ |
| 20倍レンズ | φ10μｍ | φ400μｍ | |
| 40倍レンズ | φ5μｍ | φ200μｍ | |
| 可視屈折型 ※4 | 5倍レンズ | φ40μｍ | φ1,600μｍ |
共通仕様
本体および性能
| サンプルサイズ ※5 | 最大200×200×17mm | |
|---|---|---|
| オートフォーカス | 標準搭載 | |
| 多層膜解析 | 最大50層 | |
| 膜厚精度 | 1μm未満：NIST認定試料（SiO2/Si）の膜厚保証範囲内 1μm以上：±0.2% ※6 |
|
| 繰り返し精度 | 膜厚測定 | 100nm未満：0.1nm ※7 |
| Si基板上SiO2膜 | 100nm以上：0.07% ※8 | |
| 反射率測定 | 230nm ～ 1,600nm：0.5% ※8 | |
ソフトウエア
| 測定 | マニュアル測定/連像測定/マッピング測定/マクロ測定/測定同時演算機能 |
|---|---|
| 解析 | 最小二乗法、最適化法、周期解析（FFT）、ピークバレイ法（PV）、基板解析 裏面反射補正、各種光学定数（nk）解析モデル式、グラフ表示（等高線/3D） 絶対反射率/解析結果フィッティング/光学定数(nk)の波長依存性 複数点解析 |
| システムメンテナンス | 材料ファイル構築（データベース管理）、ハードウエアの各種設定 |
データ処理部
| データ処理ユニット | ノートPC |
|---|
寸法、重量
| 自動XYステージタイプ | 固定フレームタイプ | 組込ヘッドタイプ | |
|---|---|---|---|
| 寸法 | 556(W)×566(D)×618(H)mm | 368(W)×468(D)×491(H)mm | 210(W)×441(D)×474(H)mm |
| 90(W)×250(D)×190(H)mm ※9 | |||
| 重量 | 66kg | 38kg | 23kg |
| 4kg ※9 | |||
| 消費電力 | AC100V±10V 500VA | AC100V±10V 400VA | |
オプション
| ハードウェア | 微小φ3μmスポット径対応、海外向け200-240V対応、ウエハホルダー（4/6/8インチ）、固定フレームオプションステージ（微調XY、チルト）、300ｍｍ自動XYステージ |
|---|---|
| ソフトウェア | パターンアライメント、ポスト解析、通信コマンド対応、レンズ芯出し機能、反り検出機能 |
| 消耗品 | ハロゲンランプ、重水素ランプ、Ａｌリファレンス |
| ※ | 上記以外のご要望（300mmウエハ対応、特殊形状サンプルホルダー、大型ステージ、ローダー搬送系対応、各種通信対応、クリーンルーム対応、等）に付いては別途お問い合わせください。 |
| ※1： | 移動量の繰り返し測定における拡張不確かさ（包含係数：2.1） |
| ※2： | 数値はSiO2換算の膜厚値です。測定可能範囲は、測定膜種、測定条件及び分光器仕様などにより異なります。 |
| ※3： | CCD：電子冷却型CCDエリアイメージセンサー512ch InGaAs：電子冷却型 InGaAsエリアイメージセンサー512ch |
| ※4： | 可視屈折型レンズでの絶対反射率の対応波長は450～800nmです。 |
| ※5： | これ以外のサンプルサイズにも対応可能です。別途、ご相談ください。 |
| ※6： | 分光器校正精度からの計算値です。膜厚精度は膜種により異なります。 |
| ※7： | 20倍反射対物レンズ、230～800nm測定システムを使用し、試料の同一ポイントを再フォーカスさせ繰り返し測定した時の拡張不確かさ（包含係数：2.1) |
| ※8： | 20倍反射対物レンズを使用し、試料の同一ポイントを再フォーカスさせ繰り返し測定した時の相対拡張不確かさ（包含係数：2.1)?100 |
| ※9： | AC/DC電源ユニット |
