Coating Monitor開発製品評価中（無償貸出中）

貸出に付いて

貸出機種：Coating Monitor（スピンコーターMS-B150/φ100mm基板用）
貸出期間：機材が限られますので貸出期間・時期についてはご相談させて下さい。

スピンコート方式が今より簡単に

Coating Monitorとは

1.成膜条件出しに関わる時間を大幅に短縮します

回転数の条件出しで、回転時間・カップ内の雰囲気を考慮いただく必要がありません。

【通常の成膜方法】

回転数と回転時間の設定で成膜する為、結果を受けてレシピを再調整する必要があり、条件を出すために多くのサンプルを必要とします。また、薬液滴下や温度、雰囲気の状態によって条件が変わった場合、再度レシピを調整する必要があります。複数のサンプルを作成し、条件を調整する必要があります。

【Coating Monitorを使用した成膜方法】

成膜している膜を測定し規定膜厚に到達すると停止します。回転数は設定値での回転ですが、回転時間は膜厚に依存します。条件出しのサンプル数を大幅に削減することができます。滴下量や温度、雰囲気の変化の影響を低減し、回転時間の延長や短縮で再現性の高い成膜を短時間で行います。
滴下量や雰囲気の変化の影響を低減し、回転時間の延長や短縮で再現性の高い成膜を短時間で行います。

厚みを測定し停止させる。
例えば設定膜厚に到達するタイミングが違う場合は
1枚目 rpm3200　 68sec stop
2枚目 rpm3200 　72sec stop
3枚目 rpm3200 　79sec stop
となります。
膜厚を測定して停止するので到達タイミングが変わります。
室温の変化や、レジストのコンディションの変化、滴下量の違い等の影響を減らすことができます。

測定スペクトルと計算スペクトルの適合度

膜厚値と経過時間表（リアルタイム表示）

測定時に同時に取り込んでいるデータです。
左上：測定波長の計算値と実測値の差を表示しています。
右上：測定値の変化をグラフ化して表示しています
下：データはCSVで取り込むことができます

時系列のイメージ

スタート・信号測定⇒測定データの変化をリアルタイム表示⇒設定膜厚ストップ。

Coating Monitor構成

スピンコートしながらリアルタイムで膜厚の変化をモニタリングが出来る

※モニタリングに使用している測定装置は反射分光(分光干渉)法による膜厚計を使用しております。
測定には屈折率・吸収(nk値)を入力する必要がございます。

薄膜サンプルに白色光を入射すると、膜内部で多重反射が起こります。
この多重反射光は、互いの位相差に応じて強め合ったり弱めあったりします。各多重反射光の光の波長と光路差（＝薄膜内で光が往復する距離 × 膜の屈折率）によって決まります。このため、サンプルからの反射または透過スペクトルは、膜厚に依存した特有のスペクトルを示します。
反射分光（分光干渉）法は、このスペクトルを解析することにより膜厚を測定する方法です。

※膜厚を常に一定の厚み(分布)にコントロールするためには回転数、回転時間、カップ内雰囲気(溶剤雰囲気)の3つが特に重要となります。コーティングモニターを使用することで回転数だけの条件で成膜できます。

※目標膜厚に到達した時に装置が停止するので温度やカップ内雰囲気の影響を考慮する必要がなくなります。

※膜の状態をリアルタイムで計測しているので成膜の変化を解析できる。

Coating Monitor取付可能機種

スピンコーター
MS-B150

スピンコーター仕様

スピンコーター製品案内ページのURLご参照ください
http://photolithographyrd.com/spin_coating/spin_coater/

膜厚計仕様

膜厚計　仕様

• 光源：タングステンハロゲン＞10,000h
• 波長範囲：400?900nm
• 対象膜厚範囲：50?50,000nm
• スポット径：φ3mm 又はφ1mm
• 作動距離:1?80mm
• 測定再現性:0.1nm以下(3σ)
• ＊静止状態かつ基準膜測定時
• 目標膜厚の設定
• タイムレート設定（取り込みタイミング）
• ＊対象物のn・k値が必要です

装置での実績

ご興味をお持ちいただけた方、質問等はこちらからお問い合わせ下さい。
デモも実施しておりますので、お気軽にご連絡ください。