フォトリソ工程の塗布~露光~現像・エッチング、検査まで、ラボ用半導体製造装置をワンストップで提供

製品案内

マスクアライナー(露光装置)

フォトリソグラフィ.comでは、スピンコーター(塗布機)からマスクアライナー(露光装置)、現像・エッチングの研究用ラボ機を取り扱っております。
また、測定として、膜厚測定、段差、線幅測定の各種測定機も取り扱っております。

MA-20 MA-10B MA-60F M-2LF M-1S

MA-60F

φ6インチ基板対応モデル
MA-60F

製品仕様

最大基板サイズφ6インチ
最大基板厚2mm
最大マスクサイズ7×7インチ
UVランプハウスインテグレータータイプ
照度>18mW/c㎡(at405nm)
照度均一性<±5.0%
露光光源UVランプ250W(オプション500W仕様可)
露光波長ブロードバンド(g・h・i線)
露光用タイマー切り換え方式
0~999.9秒 タイマーセット式
1~9999カウント 積算光量カウンター式
UVランプ劣化補正機能標準装備
アライメントスコープ二視野顕微鏡 対物レンズ間隔18~60mm
アライメント精度1.2μm(対物レンズ20×使用時)
アライメントギャップ測長機能標準装備
コンタクト方法ソフトコンタクト/ハードコンタクト
マニプレーター移動範囲X・Y±5mm 微動1/8mm1回転
θ:70° 微動±7°
X・Y±20mm
十字動ステージ移動範囲Z:4mm(空圧駆動分1mm/粗動3mm) 微動0.16mm
電源AC100~110V 20A
ユーティリティエアー:マスクステージ用 0.5MPa
N2:ブローアップ用 0.5MPa
真空:マスク及び基板吸着用 -0.08MPa
外形寸法(mm/除振台含む)1130W×1650H×800D
重量360kg
除振台標準装備

※仕様は予告なく変更する事がございます。

OFPR-800LB
使用機種 MA-60F
線幅 2μm(L&S)
レジスト OFPR-800LB
(東京応化製)
膜厚 1μm
e PR-THICK
使用機種 MA-60F
線幅 6μm(角ホール)
レジスト e-PR THICK
(e-chem japan製)
膜厚 6.2μm
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