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マスクアライナー(露光装置) 製品案内

マスクアライナー露光装置.comでは、マニュアルタイプのコンタクトマスクアライナー(露光装置)です。
不定形サイズの基板、シリコン・ガラス・化合物・フイルムなど様々な材質に対応可能で、5×5mm~100×100mm及びφ6インチまでの基板に対応した機種を取り揃えております。

MA-20 MA-10 MA-60F M-2LF M-1S

MA-20

φ4インチ基板対応モデル
MA-20

製品仕様

最大基板サイズφ4インチ
最大基板厚2mm
最大マスクサイズ5×5インチ
UVランプハウスマルチミラータイプ
照度>14mW/c㎡(at405nm)
照度均一性<±4.0%
露光光源UVランプ500W
露光波長ブロードバンド(g・h・i線)
露光用タイマー切り換え方式
0~999.9秒 タイマーセット式
1~9999カウント 積算光量カウンター式
UVランプ劣化補正機能標準装備
アライメントスコープ二視野顕微鏡 対物レンズ間隔18~60mm
アライメント精度1.2μm(対物レンズ20×使用時)
アライメントギャップ測長機能標準装備
コンタクト方法ソフトコンタクト/ハードコンタクト
マニプレーター移動範囲X・Y±5mm 微動1/8mm1回転
θ:70° 微動±7°
Z:4mm(空圧駆動分1mm/粗動3mm) 微動0.16mm
十字動ステージ移動範囲X・Y±20mm
電源AC100~110V 20A
ユーティリティエアー:マスクステージ/顕微鏡駆動用 0.5MPa
N2:ブローアップ用 0.5MPa
真空:マスク及び基板吸着用 -0.08MPa
外形寸法(mm/除振台含む)1000W×1300H×800D
重量290kg
除振台標準装備

※仕様は予告なく変更する事がございます。

OFPR-800LB
使用機種 MA-20
線幅 1μm(L&S)
レジスト OFPR-800LB
(東京応化製)
膜厚 1μm
e PR-THICK
使用機種 MA-20
線幅 8μm(角ホール)
レジスト e-PR THICK
(e-chem japan製)
膜厚 6.3μm
SU-8
使用機種 MA-20
線幅 7μm(円柱)
レジスト SU-8
(日本化薬製)
膜厚 30μm

ギャップ試料台

【特徴】

■プロキシミティ露光が可能です
■ピンによって物理的にギャップ設定を行います
※ギャップ範囲高さ10μm~200μmで製作可能です
※10μm間隔で設定できます
※ピンの精度は±5μm
(30μm以下のギャップの場合、基板厚み公差によってはMaskに接触してしまう可能性があります)
■Maskにコンタクトさせたくない露光に最適です
※SU-8での各種実験SEM画像用意しております
■既にお持ちの装置にオプションとして導入いただけます

ギャップ試料台

ギャップ試料台

イメージ
MA-20での簡易プロキシミティ露光SEM画像 MA-20での簡易プロキシミティ露光SEM画像

 レジスト:SU-8 50μm膜厚 ハイパスフィルターを使用しています

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