製品案内

マスクアライナー（露光装置）

フォトリソグラフィ.comでは、スピンコーター（塗布機）からマスクアライナー（露光装置）、現像・エッチングの研究用ラボ機を取り扱っております。
また、測定として、膜厚測定、段差、線幅・形状測定の各種測定機も取り扱っております。

●MA-20

●MA-10B

●MA-60F

●M-2LF

●M-1S

MA-20

φ4インチ基板対応モデル

製品仕様

最大基板サイズ			φ4インチ
最大基板厚			2mm
最大マスクサイズ			5×5インチ
UVランプハウス			マルチミラータイプ
照度			＞14mW/c㎡(at405nm)
照度均一性			＜±4.0％
露光光源			UVランプ500W
露光波長			ブロードバンド(g・h・i線)
露光用タイマー			切り換え方式 0～999.9秒　タイマーセット式 1～9999カウント　積算光量カウンター式
UVランプ劣化補正機能			標準装備
アライメントスコープ			二視野顕微鏡　対物レンズ間隔18～60mm
顕微鏡解像度			1.2μm(対物レンズ20×使用時)
アライメントギャップ測長機能			標準装備
コンタクト方法			ソフトコンタクト/ハードコンタクト
マニプレーター移動範囲			X・Y±5mm　微動1/8mm1回転 θ:70°　微動±7° Z:4mm(空圧駆動分1mm/粗動3mm)　微動0.16mm
十字動ステージ移動範囲			X・Y±20mm
電源			AC100～110V　20A
ユーティリティ			エアー：マスクステージ/顕微鏡駆動用　0.5MPa N2：ブローアップ用　0.5MPa 真空：マスク及び基板吸着用　-0.08MPa
外形寸法(mm/除振台含む)			1000W×1300H×800D
重量			290kg
除振台			標準装備

※仕様は予告なく変更する事がございます。

使用機種	MA-20
線幅	1μm(L＆S)
レジスト	OFPR-800LB (東京応化製)
膜厚	1μm

使用機種	MA-20
線幅	8μm(角ホール)
レジスト	e-PR THICK (e-chem japan製)
膜厚	6.3μm

使用機種	MA-20
線幅	7μm(円柱)
レジスト	SU-8 (日本化薬製)
膜厚	30μm

ギャップ試料台

【特徴】

■プロキシミティ露光が可能です
■ピンによって物理的にギャップ設定を行います
※ギャップ範囲高さ10μm～200μmで製作可能です
※10μm間隔で設定できます
※ピンの精度は±5μm
（30μm以下のギャップの場合、基板厚み公差によってはMaskに接触してしまう可能性があります）
■Maskにコンタクトさせたくない露光に最適です
※SU-8での各種実験SEM画像用意しております
■既にお持ちの装置にオプションとして導入いただけます