製品案内

現像・エッチング装置

フォトリソグラフィ.comでは、スピンコーター(塗布機)からマスクアライナー(露光装置)、現像・エッチングの研究用ラボ機を取り扱っております。
また、測定として、膜厚測定、段差、線幅測定の各種測定機も取り扱っております。

フォトリソ用現像装置 AD-1200
AD-3000
フォトリソ用エッチング装置
ED-1200
ED-3000

フォトリソ用小型現像装置 AD-1200

現像装置
フォトリソ用小型現像装置 AD-1200

製品特徴

  • スイングノズル式スプレー現像及びパドル現像も対応
  • 耐薬品を考慮し接液部にSUSを使用
  • 液晶タッチパネルにてプログラム簡単入力
  • 最大3薬液まで拡張可能
  • 薬液、リンス、振り切りを連続処理
  • 薬液圧送ポンプ内蔵

製品仕様

チャンバーステンレス製
基板サイズφ1インチ~φ6インチ(150×150mm)
薬液圧送内蔵ポンプ使用
薬液吐出スプレー吐出(スイングノズル式)
ステップ数96ステップ(スキップ・コピー機能付)
プログラムモード10モード
プロセス(標準)現像液:1系統
リンス:1系統
バックリンス:1系統
使用薬液アルカリ系現像液
・アルカリ現像液(TMAH)
・有機溶剤現像液(ネガレジスト用)にも対応可能
(オプション)
回転数0~3,000rpm
インターロック真空吸着確認センサー
処理室カバーインターロック
ノズル移動オーバーランリミッター
電源AC100V 4A
寸法(mm/ドア開放時)550W×440H(740H)×400D        
重量33kg
主要オプション薬液温度管理システム(加圧方式)
各種基板ホルダー
設置用作業台

※仕様は予告なく変更する事がございます。

スプレー現像とディップ現像の比較画像

スプレー 3μm
主な装置及び材料
レジスト AZ P4620
現像液 AZ 400K
使用スピンコーター MS-A150
使用露光装置 MA-20
使用現像装置 AD-1200
ディップ 3μm
プロセス条件
基板 φ4インチシリコンウエハ
プライマリー処理 HMDS
膜厚 >6μm
プリベーク 100℃ 90sec
スプレー現像時間 60sec

※ポストベーク無し

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