技術資料　／　FAQ

技術資料（SEM画像）

＜主な装置及び材料＞
①レジスト：AZ P4620
②現像液：AZ 400K
③スピンコーター：MS-A150
④露光装置：MA-20
⑤現像装置：AD-1200

＜プロセス条件＞
①基板：Φ4インチシリコンウエハ
②プライマリー処理：HMDS
③膜厚：＞6μm
④プリベーク：100℃ 90sec
⑤現像：スプレー 60sec
ポストベーク無し