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微小線幅測定装置

製品案内

半導体検査・測定装置.comでは、非接触膜厚測定機・膜厚装置、段差測定装置も扱っております。非接触膜厚測定機・膜厚装置は、反射率分光法とカーブフィット法を組み合わせた非接触光学式薄膜測定装置です。薄膜の表面と基板との界面からの反射を解析することにより、薄膜の測定が数秒で簡単に行えます。段差測定装置は、段差及び二次元表面粗さ等を自動的に測定しデータ解析処理を行う多目的、多機能な微細形状測定機です。

微小線幅測定装置

フォトリソ工程におけるレジストパターンを、対物レンズ50x以上の倍率で測定の際、パターン両側に傾斜面がある事が多々あり、正確な線幅測定が難しいことがありました。 微小線幅測定装置では、傾斜部分も含む測定条件を設定する事により、再現性の高い線幅測定が可能となりました。 また、パターン線幅寸法を画像処理により自動的に測定する為、個人誤差を排除した測定精度の向上及び、検査効率をアップできます。 微小線幅測定装置は、フォトリソ工程におけるレジストなどのパターン線幅寸法チェックに最適な測定システムです。

主な特徴

  • 画面内自動寸法測定ソフトとオートフォーカスの組み合せにより、個人誤差のない線幅測定システムです。
  • 測定再現性 3σ=0.01μm(対物100倍、 B/Wカメラ 基準スケールをAF動作にて繰り返し測定)
  • 少ない予算で、自動線幅測定システムを実現。
  • お手持ちの三眼鏡筒Cマウント付き金属顕微鏡にも、使用できます。
  • 同時に複数本の線幅測定が可能、作業効率が大幅アップ。
  • カラーカメラも可能
  • ISO校正書・トレサビリティ体系図付きキャリブレーションプレートが付属
測定用途

測定用途

  • レジストパターン幅測定
  • ガラス上のクロムパターン幅測定
    ガラススケール・エンコーダー基板など
  • ウエハ上の配線パターン幅測定
  • FPDカラーフィルター幅測定

<線の種類に応じて、様々なエッジ検出指定が可能>

線の種類に応じて、様々なエッジ検出指定が可能

<傾いている線も、検出した線に対して垂直に測定が可能>

傾いている線も、検出した線に対して垂直に測定が可能

<線幅測定仕様>

測定再現性 3σ=0.01μm
(対物レンズ100x時、基準スケールをAF動作にて繰り返し測定)
最小表示 0.001μm
線幅エッジ検出 ネガ・ポジ・インサイド・アウトサイド・ボトム
傾き補正 傾いた線の幅も、検出した線に対して垂直に測定が可能
校正値 20種類(対物レンズの倍率に応じて設定)
データ出力 測定結果のCSVデータ、測定結果画像(BMP/JPG)保存
オートフォーカス 画像オートフォーカス
カメラ 1/1.8型モノクロ CMOS 320万画素 Cマウント
Z軸制御 5相ステッピングモーター
Z軸分解能 0.005μm(組合わせる顕微鏡による)

<測定精度>

倍率 5x 10x 20x 50x 100x
繰り返し精度3σ(μm) ※ 0.2 0.1 0.05 0.02 0.01

※繰り返し精度は、基準スケールをオートフォーカスを使用し、サンプルの入れ替えなく、照明等同じ条件で10回測定時
※長作動距離対物レンズ使用時は、除きます。

<顕微鏡仕様>

本体 ニコンLV150N 反射照明専用機 マニュアルレボルバ
鏡筒 三眼鏡筒(光路切替え100:0/0:100もしくは20:80)
接眼レンズ 10x / 視野数25
対物レンズ 5x 10x 20x 50x 100x
反射照明装置 ハロゲン または LED
ステージ 6×6 ステージ、6インチウエハホルダー
観察方法 明視野観察(線幅測定用)
その他 カメラ用リレーレンズ
顕微鏡オプション 暗視野観察・微分干渉観察(線幅測定はできない場合があります。)
電動レボルバ
長作動距離対物レンズ
システム構成 計測ソフト Win11
専用PC
1/1.8型モノクロ CMOS 320万画素
AFカプラー
モニター
顕微鏡
キャリブレーションスケール
オプション ・1/1.8型カラー CMOS 320万画素
・顕微鏡用防振台
・8インチウエハまたは12インチウエハ用顕微鏡