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フォトリソ用 現像装置 AD-3000

フォトリソ用 現像装置 AD-3000

フォトリソ現像エッチング装置.comの製品は、研究・開発、少量生産向けに小型化した卓上型の装置です。拡張性に優れ必要なオプションを必要なだけ取り付け使用することが可能です。

フォトリソ用小型現像装置 AD-3000

現像装置

製品特徴

  • 大型基板対応ツインスイングノズルスプレー式
  • 耐薬品を考慮し接液部にSUSを使用
  • 液晶タッチパネルにてプログラム簡単入力
  • 薬液2系統又は3系統増設可能
  • 薬液、リンス、振り切りを連続処理
  • 薬液供給は加圧タンク圧送式

製品仕様

チャンバー
ステンレス製
基板サイズ
φ1インチ~φ12インチ(220×220mm)
薬液圧送
加圧タンク圧送式
薬液吐出
スプレー吐出(スイングノズル式)
ステップ数
48ステップ(スキップ・コピー機能付)
プログラムモード
10モード
プロセス(標準)
現像液:1系統(2ノズル)
リンス:1系統(2ノズル)
バックリンス:1系統
使用薬液
アルカリ系現像液
・アルカリ現像液(TMAH)
・有機溶剤現像液(ネガレジスト用)にも対応可能
(オプション)
回転数
0~3,000rpm
インターロック
真空吸着確認センサー
処理室カバーインターロック
ノズル移動オーバーランリミッター
電源
AC200V 3相 15A
ユーティリティ
N2:0.6MPa
寸法(mm/ドア開放時)
720W×500H(910H)×520D
重量
60kg
主要オプション
薬液温度管理システム(加圧方式)
各種基板ホルダー
設置用作業台

※仕様は予告なく変更する事がございます。

スプレー現像とディップ現像の比較画像

  • 主な装置及び材料
    レジスト
    AZ P4620
    現像液
    AZ 400K
    使用スピンコーター
    MS-A150
    使用露光装置
    MA-20
    使用現像装置
    AD-1200
  • プロセス条件
    基板
    φ4インチシリコンウエハ
    プライマリー処理
    HMDS
    膜厚
    >6μm
    プリベーク
    100℃ 90sec
    スプレー現像時間
    60sec

    ※ポストベーク無し

技術資料 / FAQ