製品案内
フォトリソ現像・エッチング装置.comの製品は、研究・開発、少量生産向けに小型化した卓上型の装置です。
拡張性に優れ必要なオプションを必要なだけ取り付け使用することが可能です。
フォトリソ用小型現像装置 AD-1200
現像装置
製品特徴
- スイングノズル式スプレー現像及びパドル現像も対応
- 耐薬品を考慮し接液部にSUSを使用
- 液晶タッチパネルにてプログラム簡単入力
- 最大3薬液まで拡張可能
- 薬液、リンス、振り切りを連続処理
- 薬液圧送ポンプ内蔵
製品仕様
- チャンバー
- ステンレス製
- 基板サイズ
- φ1インチ～φ6インチ(150×150mm)
- 薬液圧送
- 内蔵ポンプ使用
- 薬液吐出
- スプレー吐出(スイングノズル式)
- ステップ数
- 96ステップ(スキップ・コピー機能付)
- プログラムモード
- 10モード
- プロセス(標準)
- 現像液:1系統
リンス:1系統
バックリンス:1系統
- 使用薬液
- アルカリ系現像液
・アルカリ現像液（TMAH）
・有機溶剤現像液（ネガレジスト用）にも対応可能
（オプション）
- 回転数
- 0～3,000rpm
- インターロック
- 真空吸着確認センサー
処理室カバーインターロック
ノズル移動オーバーランリミッター
- 電源
- AC100V 4A
- 寸法(mm/ドア開放時)
- 550W×440H(740H)×400D
- 重量
- 33kg
- 主要オプション
- 薬液温度管理システム(加圧方式)
各種基板ホルダー
設置用作業台
※仕様は予告なく変更する事がございます。
スプレー現像とディップ現像の比較画像
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主な装置及び材料- レジスト
- AZ P4620
- 現像液
- AZ 400K
- 使用スピンコーター
- MS-A150
- 使用露光装置
- MA-20
- 使用現像装置
- AD-1200
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プロセス条件- 基板
- φ4インチシリコンウエハ
- プライマリー処理
- HMDS
- 膜厚
- >6μm
- プリベーク
- 100℃ 90sec
- スプレー現像時間
- 60sec
※ポストベーク無し
技術資料 ／ FAQ
