スピンコーター

【密閉型・オープン型角基板成膜分布比較画像】

＜密閉型＞
		膜厚測定装置 FILMETRICS製F50 レジスト OFPR-800LB(東京応化社製) 基板サイズ 65×65mm 膜厚分布 ±0.7％

＜オープン型＞
		膜厚測定装置 FILMETRICS製F50 レジスト OFPR-800LB(東京応化社製) 基板サイズ 65×65mm 膜厚分布 ±19.6％

スピンコーターMS-B200密閉型の製品案内はこちら　>>

膜厚測定装置 FILMETRICS製F50 レジスト OFPR-800LB(東京応化社製) 基板サイズ Φ8インチシリコンウエハ ターゲット膜厚 1μm 膜厚分布 ±0.5％

スピンコーターMS-B200の製品案内はこちら　>>

スピンコーターの製品案内はこちら　>>

スピンコーターの製品案内はこちら　>>

膜厚を常に一定の厚み(分布)にコントロールするためには回転数、回転時間、カップ内雰囲気(溶剤雰囲気)の３つが特に重要になります。更に膜厚分布の管理を追求していくと滴下量、カップ内の形状(風切・排気・試料台の形状)、温度、湿度、基板面平行度、滴下液の温度、滴下液の濃度、滴下液の揮発性、ベーク温度、ベーク温度の分布ムラなど様々な要素を管理する事で均一な成膜が可能となります。

スピンコーターの製品案内はこちら　>>

スピンコーターの製品案内はこちら　>>

対応しておりません。成膜装置ですから現像の様な多量の液を流すための構造となっておりません。

窒素雰囲気下での使用実績がございます。