技術資料　／　FAQ

１．Photo 1, 2 にライン（残し、抜き）の3um, 2um, 1um の様子を示します。
　　1umまで解像されており、場所による差もほとんど観察されません。
　　尚、若干、ラインががたがたしているところが見受けられますが、
　　マスクの汚れと思われます。また、1umのドット等で崩れかかったりしているところが
　　ありますが、マスクそのものが1umの形状がいびつなところが多々ありばらつきが
　　ありますので、露光機、レンズ、レジストの影響とは言いかねます。

２．Photo 3－6 に3, 2, 1um のL&S、Dot、Holeの様子を示します。
　　1umまで解像されており、場所による差もほとんど観察されません。

３．Photo　7－9は、その他の場所の抜粋のSEMです。