產品介紹
對準曝光機
| ■ | 手動操作、接觸式對準曝光機。 |
| ■ | 可以處理矽、玻璃、化合物、薄膜和各種其他材料以及不規則尺寸的基材。 |
| ■ | 依照不同需求以及成本考量・有準直儀型・多面鏡型・整合(積算器)型三種曝光光源。 |
| ■ | 有可對應5×5mm～100×100mm以及1 inch～6 inch的基板的各類機種。 |
| ■ | Mask Holder・載台的更換作業簡單易行，可在１分鐘内完成，適合用於研究開發。 |
| ■ | 對準顯微鏡的對物鏡可對應高對準精度或厚膜等用途，並且有10×、20×二種。 |
MA-10B 對準曝光機
[低成本・標準型]
產品特點
■ 機械手平台移動 ±50mm，便於對齊
■ 通過在可移動部件上設置傳感器來防止故障
■ 輕量化設計※我們的MA-10比較
■ 防止面罩掉落的取出板※根據面罩玻璃規格製造
■ 還支持不規則尺寸的基材*根據基材生產真空吸附樣品架
產品規格
| 最大基板尺寸 | φ4 inch |
|---|---|
| 最大基材厚度 | 2mm |
| 最大Mask尺寸 | 5×5inch |
| UV燈箱 | 準直儀型 |
| 照度 | ＞8mW/cm2 (at 405 nm) |
| 照度均一性 | ＜±8.5% |
| 曝光源 | 紫外線燈，250 W |
| 曝光波長 | 多頻率（g/h/i-line） |
| 有效照射面積 | φ4 inch |
| 曝光定時器 | 0～999.9秒（定時器設置模式） |
| UV燈累計光量計 | 不可裝配 |
| 對準顯微鏡 | 雙視野顯微鏡 對物鏡間隔18～60mm |
| 對準精度 | 使用對物鏡20×時＜1.2μm |
| 對準點間隔測長功能 | 不可裝配 |
| 接觸方式 | 軟接觸和硬接觸 |
| 運營單位 | 觸摸屏類型 |
| 安全功能 | 掩模/晶圓吸附 Z軸下限位 瞄準鏡上/下擺動位置 載物台鎖定位置 |
| 機械手動作範圍 | X/Y：±6.5mm，以0.025mm為步長微調，一整圈 θ：50°，±5° 步進微調 Z：10mm，微調0.025mm |
| 橫向移動台移動範圍 | X/Y:±50mm |
| 公用設備 | 空氣：0.5 MPa，用於驅動顯微鏡/用於載物台鎖定 N2：0.5MPa，用於吹脹 N2：0.5MPa，用於吹脹 真空度：-0.08MPa，用於吸附掩模版和基板 |
| 電源 | AC100V 9A |
| 外形尺寸 (mm) | 750W×600H×650D |
| 重量 | 90kg |
| 可選配件 | 防震台 真空泵 三目鏡管監視器規格 曝光光源500W規格 |
注：規格如有更改，恕不另行通知。
MA-20 對準曝光機
[高解析度・高規格型]
產品規格
| 最大基板尺寸 | φ4 inch |
|---|---|
| 最大基材厚度 | 2mm |
| 最大Mask尺寸 | 5×5inch |
| UV燈箱 | 多面鏡型 |
| 照度 | > 14 mW/cm2 (at 405 nm) |
| 照度均一性 | < ±4.0% |
| 曝光源 | 紫外線燈，500 W |
| 曝光波長 | 多頻率（g/h/i-line） |
| 曝光定時器 | 模式之間切換： 0～999.9秒（定時器設置模式） 1～9999計數（累積光量計數器模式） |
| UV燈累計光量計 | 標准設備 |
| 對準顯微鏡 | 雙視野顯微鏡 對物鏡間隔18～60mm |
| 對準精度 | 使用對物鏡20×時＜1.2μm |
| 對準點間隔測長功能 | 標准設備 |
| 接觸方式 | 軟接觸和硬接觸 |
| 機械手動作範圍 | X/Y：±5mm，以1/8mm為步長微調，一整圈 θ：70°，以±7°為步長進行微調 Z：4mm（1mm用於氣動驅動，3mm用於粗動），微動以0.16mm步長 |
| 橫向移動台移動範圍 | X/Y: ±20 mm |
| 電源 | AC100～110V 20A |
| 公用設備 | 空氣：0.5 MPa，用於驅動顯微鏡/用於載物台鎖定 N2：0.5MPa，用於吹脹 N2：0.5MPa，用於吹脹 真空度：-0.08MPa，用於吸附掩模版和基板 |
| 外形尺寸 (mm) | 1000 W × 1300 H × 800 D |
| 重量 | 290 kg |
| 防震台 | 標准設備 |
注：規格如有更改，恕不另行通知。
| 使用型號 | MA-20 |
|---|---|
| 行寬 | 1μm (L＆S) |
| 光刻劑 | OFPR-800LB (東京應化製) |
| 塗層厚度 | 1 μm |
| 使用型號 | MA-20 |
|---|---|
| 行寬 | 8μm (矩形孔) |
| 光刻劑 | e PR-THICK (from eChem Solutions Japan Inc.) |
| 塗層厚度 | 6.3 μm |
| 使用型號 | MA-20 |
|---|---|
| 行寬 | 7μm (圓柱) |
| 光刻劑 | SU-8 (日本化藥製) |
| 塗層厚度 | 30 μm |
間隙樣品台
【特徵】
■啟用近距離曝光。
■ 間隙設置是使用引腳進行物理配置的。
・間隙可定制為10～200μm。
・引腳精度在±5μm以內。
・可以以10μm的間隔進行設定。
■ 非常適合不需要接觸面罩的曝光。
・可獲取通過實驗獲得的SU-8的各種SEM圖像。
■ 可以添加到您現有的系統中。
間隙樣品台
使用 MA-20 執行簡化的接近曝光獲得的 SEM 圖像 使用 MA-20 執行簡化的接近曝光獲得的 SEM 圖像
光刻劑：SU-8，塗層厚度50μm。
MA-60F 對準曝光機
[高解析度・φ6inch高規格型]
產品規格
| 最大基板尺寸 | φ6 inch |
|---|---|
| 最大基材厚度 | 2mm |
| 最大Mask尺寸 | 7×7inch |
| UV燈箱 | 整合型 |
| 照度 | > 18 mW/cm2 (at 405 nm) |
| 照度均一性 | < ±5.0% |
| 曝光源 | 紫外線燈，250 W |
| 曝光波長 | 多頻率（g/h/i-line） |
| 曝光定時器 | 模式之間切換： 0～999.9秒（定時器設置模式） 1～9999計數（累積光量計數器模式） |
| UV燈累計光量計 | 標准設備 |
| 對準顯微鏡 | 雙視野顯微鏡 對物鏡間隔18～60mm |
| 對準精度 | 使用對物鏡20×時＜1.2μm |
| 對準點間隔測長功能 | 標准設備 |
| 接觸方式 | 軟接觸和硬接觸 |
| 機械手動作範圍 | X/Y：±5mm，以1/8mm為步長微調，一整圈 θ：70°，以±7°為步長進行微調 Z：4mm（1mm用於氣動驅動，3mm用於粗動），微動以0.16mm步長 Z：4mm（1mm用於氣動驅動，3mm用於粗動），微動以0.16mm步長 |
| 橫向移動台移動範圍 | X/Y：±20mm |
| 電源 | AC100～110V 20A |
| 公用設備 | 空氣：0.5 MPa，用於驅動顯微鏡/用於載物台鎖定 N2：0.5MPa，用於吹脹 N2：0.5MPa，用於吹脹 真空度：-0.08MPa，用於吸附掩模版和基板 |
| 外形尺寸 (mm) | 1130 W × 1650 H × 800 D |
| 重量 | 360 kg |
| 防震台 | 標准設備 |
注：規格如有更改，恕不另行通知。
| 使用型號 | MA-60F |
|---|---|
| 行寬 | 2 μm (L&S) |
| 光刻劑 | OFPR-800LB (東京應化製) |
| 塗層厚度 | 1 μm |
| 使用型號 | MA-60F |
|---|---|
| 行寬 | 6μm (矩形孔) |
| 光刻劑 | e-PR THICK (from eChem Solutions Japan Inc.) |
| 塗層厚度 | 6.2 μm |
M-2LF 對準曝光機
[高規格型]
產品規格
| 最大基板尺寸 | φ6 inch |
|---|---|
| 最大基材厚度 | 2mm |
| 最大Mask尺寸 | 7×7inch |
| UV燈箱 | 整合型 |
| 照度 | > 18 mW/cm2 (at 405 nm) |
| 照度均一性 | < ±5.0% |
| 曝光源 | 紫外線燈，250 W |
| 曝光波長 | 多頻率（g/h/i-line） |
| 曝光定時器 | 0～999.9秒（定時器設置模式） |
| UV燈累計光量計 | 不可裝配 |
| 對準顯微鏡 | 雙視野顯微鏡 對物鏡間隔18～60mm |
| 對準精度 | 使用對物鏡20×時＜1.2μm |
| 對準點間隔測長功能 | 不可裝配 |
| 接觸方式 | 軟接觸（可選硬接觸） |
| 機械手動作範圍 | X/Y：±5mm，以1/8mm為步長微調，一整圈 θ：70°，以±7°為步長進行微調 Z：10mm，以 0.16mm為步長進行微調 |
| 橫向移動台移動範圍 | 可選配件 |
| 電源 | AC100～110V 20A |
| 公用設備 | N2：0.5MPa，用於吹脹 真空度：-0.08MPa，用於吸附掩模版和基板 |
| 外形尺寸 (mm) | 1000 W × 1680 H × 800 D |
| 重量 | 280 kg |
| 防震台 | 標准設備 |
注：規格如有更改，恕不另行通知。
M-1S 對準曝光機
[低成本型]
產品規格
| 最大基板尺寸 | φ3 inch |
|---|---|
| 最大基材厚度 | 2mm |
| 最大Mask尺寸 | 4×4inch |
| UV燈箱 | 準直儀型 |
| 照度 | > 8 mW/cm2 (at 405 nm) |
| 照度均一性 | < ±8.5% |
| 曝光源 | 紫外線燈，250 W |
| 曝光波長 | 多頻率（g/h/i-line） |
| 曝光定時器 | 0～999.9秒（定時器設置模式） |
| UV燈累計光量計 | 不可裝配 |
| 對準顯微鏡 | 體視顯微鏡（變焦系統） |
| 對準精度 | 3.7μm（變焦倍率設置為1×） |
| 對準點間隔測長功能 | 不可裝配 |
| 接觸方式 | 軟接觸和硬接觸 |
| 機械手動作範圍 | X/Y：±5mm，以1/8mm為步長微調，一整圈 θ：70°，以±7°為步長進行微調 步進微調 Z：3mm，微調0.16mm |
| 橫向移動台移動範圍 | 不可裝配 |
| 電源 | AC100～110V 20A |
| 公用設備 | N2：0.5MPa，用於吹脹 真空度：-0.08MPa，用於吸附掩模版和基板 |
| 外形尺寸 (mm) | 800 W × 730 H × 500 D |
| 重量 | 100 kg |
| 防震台 | 可選配件 |
注：規格如有更改，恕不另行通知。
