產品介紹

Photolithography.com 提供用於實驗室應用的旋轉塗佈機、對準曝光機、顯影刻蝕装置設備。

光刻顯影設備

●AD-1200 ●AD-3000

用於光刻的蝕刻設備

●ED-1200 ●ED-3000

緊湊型光刻顯影設備 / AD-1200

產品特點

• ■ 能夠使用擺動噴嘴進行水坑顯影和噴霧顯影。
• ■ 接觸液體的部件由不銹鋼製成，以防止化學品腐蝕。
• ■ 使用LCD 觸摸屏輕鬆編程。
• ■ 最大可以擴張到3藥液
• ■ 連續處理藥液、清洗、甩乾
• ■ 內建藥液壓送幫浦

產品規格

注：規格如有更改，恕不另行通知。

噴霧顯影和浸漬顯影的比較圖像

注：規格如有更改，恕不另行通知。

光刻顯影設備 / AD-3000

產品特點

• ■ 雙擺動噴嘴噴霧適用於大型基材。
• ■ 接觸液體的部件由不銹鋼製成，以防止化學品腐蝕。
• ■ 使用LCD 觸摸屏輕鬆編程。
• ■ 最大可以擴張到3藥液
• ■ 連續處理藥液、清洗、甩乾
• ■ 顯影劑從壓力罐中泵出。

產品規格

注：規格如有更改，恕不另行通知。

用於光刻的緊湊型蝕刻設備 / ED-1200

產品特點

• ■ 帶有擺動噴嘴的噴射蝕刻設備。
• ■ 考量到耐藥性，接液部使用PVC材質
• ■ 使用LCD 觸摸屏輕鬆編程。
• ■ 最大可以擴張到3藥液
• ■ 連續處理刻蝕、清洗、甩乾
• ■ 內建藥液壓送幫浦

產品規格

注：規格如有更改，恕不另行通知。

光刻蝕刻設備 / ED-3000

產品特點

• ■ 雙擺動噴嘴噴霧適用於大型基材。
• ■ 考量到耐藥性，接液部使用PVC材質
• ■ 使用LCD 觸摸屏輕鬆編程。
• ■ 最大可以擴張到3藥液
• ■ 連續處理刻蝕、清洗、甩乾
• ■ 蝕刻劑從壓力罐中泵出

Product Specifications

注：規格如有更改，恕不另行通知。